Cieľová hodnota relatívnej vlhkosti v polovodičovej (FAB) čistej miestnosti

Cieľová hodnota relatívnej vlhkosti v polovodičovej (FAB) čistej miestnosti je približne 30 až 50 %, čo umožňuje úzku odchýlku ± 1 %, ako napríklad v litografickej zóne – alebo ešte menej pri ďalekom ultrafialovom spracovaní (DUV). zóna – zatiaľ čo inde sa dá uvoľniť na ±5 %.
Pretože relatívna vlhkosť má celý rad faktorov, ktoré môžu znížiť celkový výkon čistých priestorov, vrátane:
1. Rast baktérií;
2. Komfortný rozsah izbovej teploty pre personál;
3. Objaví sa elektrostatický náboj;
4. Korózia kovov;
5. Kondenzácia vodnej pary;
6. Degradácia litografie;
7. Absorpcia vody.

Baktérie a iné biologické nečistoty (plesne, vírusy, huby, roztoče) môžu prosperovať v prostredí s relatívnou vlhkosťou nad 60 %.Niektoré bakteriálne spoločenstvá môžu rásť pri relatívnej vlhkosti viac ako 30 %.Spoločnosť sa domnieva, že vlhkosť by sa mala kontrolovať v rozmedzí 40 % až 60 %, čo môže minimalizovať vplyv baktérií a respiračných infekcií.

Relatívna vlhkosť v rozsahu 40 % až 60 % je tiež miernym rozsahom pre ľudské pohodlie.Príliš veľa vlhkosti môže spôsobiť, že sa ľudia budú cítiť dusno, zatiaľ čo vlhkosť pod 30% môže spôsobiť, že ľudia budú mať pocit suchej, popraskanej pokožky, dýchacieho nepohodlia a emocionálneho nešťastia.

Vysoká vlhkosť v skutočnosti znižuje hromadenie elektrostatického náboja na povrchu čistých priestorov – požadovaný výsledok.Nízka vlhkosť je ideálna pre akumuláciu náboja a potenciálne škodlivý zdroj elektrostatického výboja.Keď relatívna vlhkosť presiahne 50 %, elektrostatické náboje sa začnú rýchlo vytrácať, ale keď je relatívna vlhkosť nižšia ako 30 %, môžu dlho pretrvávať na izolátore alebo neuzemnenom povrchu.

Ako uspokojivý kompromis možno použiť relatívnu vlhkosť medzi 35 % a 40 % a čisté polovodičové priestory vo všeobecnosti používajú dodatočné ovládacie prvky na obmedzenie akumulácie elektrostatických nábojov.

Rýchlosť mnohých chemických reakcií, vrátane koróznych procesov, sa bude zvyšovať so zvyšovaním relatívnej vlhkosti.Všetky povrchy vystavené vzduchu okolo čistej miestnosti sú rýchle.